1. Технологічний процес у мікроелектроніці та фотолітографії, при якому за допомогою світлової маски (фотомаски) на поверхню напівпровідникового матеріалу (пластини) переноситься та формується певний візерунок для створення елементів інтегральних схем.
2. Власне світлова маска (фотомаска) — прозора пластина (зазвичай з кварцового скла), що містить непрозорий шаблон (візерунок) і використовується як шаблон для масового відтворення одного шару мікроелектронної структури при фотолітографічному виробництві.