Фоторезист — світлочутливий полімерний матеріал, який наноситься тонким шаром на поверхню напівпровідникової пластини (вафель) і змінює свою розчинність під дією ультрафіолетового випромінювання, що дозволяє формувати на ній мікроскопічний рельєфний візерунок під час фотолітографії у виробництві мікроелектронних пристроїв.
Древослів
Словник Української Мови